基于Top-down的分子存储器的加工工艺研究

有机分子存储器是目前国际研究的热点，但主要工作还集中在材料的组装和性能研究方面。随着研究的深入，探索高效、可集成的分子器件制备工艺意义重大。将传统微电子的top-down加工工艺应用到分子器件的构造上是分子器件未来发展的有效途径。本项目将针对目前国际上广泛研究的几种双稳态分子材料进行top-down加工工艺的研究，从兼容CMOS工艺角度出发，重点放在对构成分子存储器性能有重要影响的加工工艺上，如有机分子材料的保护层的选择、光刻、高温及其它工艺对双稳态有机分子材料特性的影响、电极材料的选择和特性研究等方面。摸索出适合对有机分子薄膜材料进行加工的top-down 工艺技术，在分子存储器的设计、加工等方面积累关键技术，形成自主知识产权，为未来分子电子器件及其集成打下工艺基础。