石墨基体上脉冲电沉积TiB2镀层机理的研究
基本信息
批准号：50204006
项目类别：青年科学基金项目
资助金额：24.00
负责人：李冰
学科分类：
依托单位：华东理工大学
批准年份：2002
结题年份：2005
起止时间：2003-01-01 - 2005-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：赵祖欣,闵华阳,徐丽英,邹晓东,庞厚君
关键词：
石墨脉冲电沉积二硼化钛
结项摘要
分别采用含有K2TiFe KBF4和Ti2O B2O3的融盐体系利用脉冲电源，使钛和硼在石墨基体上共沉积并电合成TiB2。融盐中存在不同价态的钛离子，使这一过程重复性差，通过实验找出钛与硼共沉积的工艺条件和阴极过程机理；为了避免枝晶的产生，采用脉冲电源控制镀层的质量，并得到适宜的脉冲电源参数值。TiB2镀层适用于铝电解槽的可湿润阴极材料，应用前景十分广阔。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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