物理和化学作用对离子束增强沉积制备VO2薄膜的相关性
基本信息
批准号：10175027
项目类别：面上项目
资助金额：20.00
负责人：李金华
学科分类：
依托单位：常州大学
批准年份：2001
结题年份：2004
起止时间：2002-01-01 - 2004-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：袁宁一,李坤,蒋美萍
关键词：
离子束增强沉积二氧化钒薄膜红外敏感膜
结项摘要
改变常规离子束增强沉积的物理过程，用Ar+、H＋混合束注入溅射沉积的V2O5膜。Ar+轰击使部分V－O键断裂，游离氧与注入氧结合，使V降价，形成在军事和民用方面有迫切应邀需要的VO2薄膜。研究如何控制该过程中的物理和化学作用的相关性，以制备优质VO2薄膜，并用它试制悬空结构的16x16非制冷焦平面阵列样品。目前，尚未见有类似工作的报道。.
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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