金属离子束增强沉积多元薄膜机理研究

基本信息
批准号:59371050
项目类别:面上项目
资助金额:6.00
负责人:李国卿
学科分类:
依托单位:大连理工大学
批准年份:1993
结题年份:1996
起止时间:1994-01-01 - 1996-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王德和,黑祖昆,宫泽祥
关键词:
多元薄膜金属离子增强沉积
结项摘要

金属离子束和多元离子束增强沉积技术,在低温条件下在材料表面沉积纯金属、合金或有机材料薄膜,膜基结合力高、大于2000gf,膜层成分可通过离子束剂量、溅射沉积率和气体吸附率精确控制;膜层组织在一般条件下为纳米晶,在低温冷却或膜层化合物形成自由能较高条件下易形成非晶组织。本项目重点研究了金属离子束和多元离子束作用下的长程效应、界面反应和膜层合金化规律与性能,采用Monte-Carlo方法计算和控制工艺过程。本项目开发了(TiMe)M膜系、金属—MoS2固体润滑膜系、Fe-N基多元合金磁性膜系和纯银—Si封装技术,并在化工、宇航、电子领域获得初步应用,效果显著。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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