在探索Si发光的研究征途中,实现Si的光激射必将引起新一代光电子器件和超快计算机设计的革命。本项目是基于我们提出的限制性晶化原理的研究思想,采用PECVD和激光晶化技术兄聘呙芏染植嫉腟i QDs/SiO2多层结构发光层,设计并原位制作Bragg光学共振腔,获肧i QDs的光激射,研究其相干光激射机理,为实现电注入Si QDs激光器创造条件。
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数据更新时间:2023-05-31
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