硅上异质外延单晶金刚石膜生长机理及磁阻效应的研究

着重从理论上研究硅衬底上异质外延单晶金刚石薄膜的成核过程和生长机理；并探寻新的合成单晶金刚石的方法和生长条件；制备出高质量的硼掺杂金刚石膜；研究其磁阻效应，并设计制造高灵敏度、高可靠性、耐高温、防辐射、抗化学腐蚀的金刚石磁阻敏感器件。结果结果在推动金刚石薄膜的制备与应用发展方面，有重要的理论意义和实用经济价值。