新型纳米微结构光盘基础

本项目探索研究纳米微结构光盘的新材料和新结构，探索阐明其微纳特征结构、局域光学效应和超分辨光存储特性之间的关系，从而基于新型金属有机化（复）合物掩膜结构优化制备出纳米微结构光盘原型器件，可动态记录/读出尺寸为50nm左右的记录点，实现超分辨可擦重写。使存储密度可达每平方英寸60Gb以上,光盘容量可达太位级（～1Tb），可形成具有自主知识产权的新型纳米微结构光盘技术基础。