超分辨近场结构纳米光存储掩膜材料研究

超分辨近场结构（super-RENS）光盘技术是最有实用化前景的纳米尺度超分辨光存储技术，对super-RENS掩膜材料的研究是推进这类新型超高密度光存储技术的重要前提。本项目研究新型super-RENS掩膜材料、实现超高密度纳米光存储（记录点尺寸小干100nm），为新一代超高密度光盘（单盘容量超过兆兆位）的研究奠定理论和实验基础。