光盘存储薄膜结构和记录畴微结构的研究

基本信息
批准号:69477005
项目类别:面上项目
资助金额:7.00
负责人:干福熹
学科分类:
依托单位:中国科学院上海光学精密机械研究所
批准年份:1994
结题年份:1997
起止时间:1995-01-01 - 1997-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:吴章华,蒋模光,刘超
关键词:
扫描隧道显微镜微结构记录畴
结项摘要

用STM、AFM和HR-TEM研究了可录CD(CD-R)光盘的伺服槽结构和有机光存储介质的记录畴结构,从微区结构可以看出光盘的记录机理,研究了微区结构和光盘的记录特性的关系。用绿色激光(波长514nm)在可擦重写相变光盘上进行了记录和擦除的试验,用AFM和HR-TEM对单层记录介质GeSb2te4层和多层膜的记录畴进行了观察和研究。用热扩散模型模拟计算了瞬态温度场院的变化以及可能的相变过程并与记录畴结构的实验结果相比,从而了解到相变的动态过程。上述研究结果对改进一次记录光盘和可擦重写光盘的性能以及制盘工艺和记录参数起到了积极作用;为进一步发展高密度光盘存储技术建立了一定的基础。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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