纳米结构尺度测量中的计算物理问题研究

本项课题侧重从电子与材料相互作用的基础物理的角度出发，研究测长扫描电镜成像和线宽评价问题，以及X光电子能谱测膜厚问题。在建立新的物理模型的基础上，采用蒙特卡洛方法模拟扫描电镜中二次电子信号以及表面电子能谱学中光电子信号的产生和发射，由此研究具体实验条件下各种参数对尺度测量的影响，在总结归纳的基础上提出普适性强且简单实用的经验分析公式，为纳米尺度测量的实际工作提供理论指导，也为表面微分析和表征手段的进一步发展提供理论依据。