2006年ITRS预计:2016年左右以双栅纳米FinFET为代表的非传统CMOS可能代替体硅结构用于亚22nm节点后的集成电路技术代. 如此的技术进步对纳米FinFET的研究提出了巨大挑战: 一是目前还无完整清晰的纳米FinFET器件物理理论; 二是诸多独特物理效应复杂化了电路模拟SPICE模型的建立;三是并不清楚已有的电路设计技术和方法是否适用纳米FinFET的CMOS电路. 基于此, 我们提出"双栅纳米FinFET的器件物理,模拟模型和电路设计技术研究"项目,争取2-3年内在纳米FinFET的器件物理, 模拟模型和相应的电路设计技术上有突破性进展: 建立国际创新性的双栅纳米FinFET载流子器件物理理论;实现FinFET新效应在该理论框架内自洽集成的电路SPICE模型;发展FinFET电路结构的设计验证平台; 研究以FinFET为基本结构单元的新电路拓扑和电路设计新技术。
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数据更新时间:2023-05-31
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