厚层光致抗蚀剂光刻技术研究

基于光学和光化学理论、深入研究光刻图形在厚层抗蚀剂中的传递机理，探索图形结构参量和工艺参量对图形传递的影响，建立厚胶曝光和显影的新模型，编制描述厚胶光刻全过程的模拟计算软件。探索厚胶光刻的优化新工艺条件，提出改善图形非线性畸变的新方法，对发展微机械、微光机电系统有重要意义，并可为研制厚胶光刻专用设备提供理论依据。