本项目是利用扫描隧道显微镜(STM)从事物质表面结构的研究,特别是对半导体表面。研究内容主要包括在原有超高真空系统上建立STM装置,并利用超高真空和大气环境下工作的STM对半导体表面结构进行研究。到目前为止,已在大气环境中对硅分子束外延生长的GeSi超晶格材料等样品表面进行了形貌观测,研究了表面氧化对STM隧道成像过程的影响,探讨了在大气中获得半导体表面结构真实信息的可能性。应用STM还研究了Si衬底上三元固相反应生成的CoSi2薄膜的表面结构,开展了与纳米结构相应的隧道效应等方面的初步性工作。其中的一些研究成果已经以论文的形式发展。由于经费等原因,UHVSTM暂缓建立。但大气中半导体表面结构的STM研究还将继续进行。
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数据更新时间:2023-05-31
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