铁表面硅烷分子(PTMS，γ-GPS 和γ-APS )吸附成膜动力学模型研究

硅烷偶联剂在金属表面的吸附成膜动力学过程是决定界面粘结性能及膜层性能的关键因素，本项研究针对硅烷分子在金属表面吸附成膜中的关键科学问题，采用理论计算与试验相结合的方法研究硅烷分子（PTMS，γ-GPS，γ-APS）在铁表面的吸附成膜动力学过程。综合采用光电子能谱仪、原子力显微镜、反射吸收红外光谱仪及次级离子质谱仪系统研究Si-O-Fe与Si-O-Si在金属表面的形成速率及相互影响机制，探讨铁表面硅烷分子吸附成膜三维形貌演化及形态变化，分析表面状态、成分及微观结构对吸附成膜过程及膜层性能的影响机制；采用密度泛函理论结合广义梯度近似的计算模拟方法对吸附成膜过程进行微观动力学模拟，理论计算结果理解试验现象的本质起因，建立硅烷分子在铁表面的吸附成膜动力学模型。本项研究将会为性能优异硅烷分子的设计、筛选和合成提供有效的理论指导，同时可为硅烷偶联化预处理技术的快速发展及工业化提供理论支撑。