快速热处理（RTP）对大直径掺氮直拉硅片氧沉淀和内吸杂的作用

研究大直径掺氮直拉硅片经快速热处理后的氧沉淀行为。揭示氮和空位在氧沉淀中何者起主要作用或者是否存在协同作用。通过研究经快速热处理的掺氮硅片在低温和高温一步或两步处理后的氧沉淀及其诱生缺陷，提出基于快速热处理的大直径掺氮直拉硅片的内吸杂工艺。上述研究将丰富硅片缺陷工程的内容，为开发大直径掺氮直拉硅片提供技术依据。