联合采用电化学噪声(EN)、电化学阻抗(EIS)和电化学扫描探针显微技术(SECM、ECSTM)等,深入研究纳米结构Ni基-(TiN、SiC、Si3N4)复合薄膜的初始"成核/生长"机理及添加相纳米粒子对薄膜电沉积机理(包括Ni的欠电势沉积)和薄膜微观结构的影响机制;探明目前国内外学术界在"纳米结构复合薄膜的成膜机理、添加相纳米粒子对纳米结构复合薄膜的成膜机理的影响机制"及"纳米结构复合薄膜的腐蚀行为"研究中存在分歧的原因;同时建立纳米结构复合薄膜的电沉积理论模型。在上述研究的基础上,采用电化学噪声、ECSTM和EIS等技术研究Ni基纳米结构复合薄膜的腐蚀机理,重点查明薄膜中添加相米粒子对薄膜腐蚀电化学行为的影响机制,并建立纳米结构复合薄膜的腐蚀电化学模型。项目不仅为Ni基纳米结构复合薄膜的工业开发和应用提供了基础,而且丰富了纳米电化学理论;因此具有重要的实际意义和理论价值
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数据更新时间:2023-05-31
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