研究高k铪基栅介质材料和器件的电离辐射效应及加固技术,对加速我国新一代微电子技术在国防事业和空间系统中的应用,提高我国在国际上空间竞争的优势具有重要意义。本项目利用脉冲激光沉积方法,在Si衬底上反应沉积多组元HfSiON栅介质薄膜;采用Medici、Tsuprem等软件进行HfSiON栅介质薄膜抗电离辐射效应的仿真模拟;结合10keV X射线和60CoΥ射线,在不同辐射总剂量下,对HfSiON介质薄膜进行电离辐射效应测试;研究HfSiON栅介质薄膜电离辐射损伤的规律,探讨各元素尤其是N元素的结键模式对薄膜抗电离辐射性能的影响及作用机理,重点表征辐射造成的氧化物陷阱电荷和界面陷阱电荷,分析缺陷类型,得到原子级别的抗辐射机理;通过调整薄膜沉积参数和工艺对其进行抗电离辐射加固;建立基于高介电常数铪基栅介质薄膜的抗电离辐射评估方法。。
{{i.achievement_title}}
数据更新时间:2023-05-31
基于一维TiO2纳米管阵列薄膜的β伏特效应研究
正交异性钢桥面板纵肋-面板疲劳开裂的CFRP加固研究
特斯拉涡轮机运行性能研究综述
小跨高比钢板- 混凝土组合连梁抗剪承载力计算方法研究
中国参与全球价值链的环境效应分析
二氟化硼注入加固栅介质在硅栅中迁移特性的研究
深亚微米SOI器件总剂量辐射模型及背栅加固技术研究
高k栅介质/双金属栅器件研究及制备
新型高k栅介质SrHfON薄膜的制备与物理特性研究