场偏置常压低温等离子体对柔性基质硅基网孔发光薄膜结构的调控机制

发展一种场偏置常压低温等离子体沉积新方法，深入研究其成形机制，在柔性基质上构筑高发光效率、波长可变的硅基网孔发光薄膜。通过常温常压下等离子体与场偏压的双重作用，进行成形过程的实时动态研究，调控气体分子的裂解活化、极化结晶、成网成孔的过程，掌握其成形规律、物理机制与关键控制因素，建立薄膜成形过程、结构特性与发光性能的关系。重点进行薄膜纳米晶及网孔结构的调控，探讨其发光机理，充分利用硅纳米晶小尺寸引起的量子限域效应、以及网孔大比表面积产生的发光中心效应对发光的双重贡献，在目前较高强度蓝色荧光的初步实验基础上，获得波长可变的高发光效率发光薄膜。促进柔性基质硅基光电薄膜材料与器件技术的进步，开创其在智能材料与纺织品、柔性基质光电显示技术、柔性太阳能电池、光电传感、生物传感、信息存储等方面的应用与发展。