铝基合金SIOx涂层低温常压CVD制备及性能机理研究
基本信息
批准号：50271065
项目类别：面上项目
资助金额：23.00
负责人：郦剑
学科分类：
依托单位：浙江大学
批准年份：2002
结题年份：2005
起止时间：2003-01-01 - 2005-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：沃银花,刘涛,张慧泽
关键词：
铝合金低温常压化学气相氧化硅涂层
结项摘要
采在.用.低.温.常.压.化.学.气.相.沉.积.技.术.，.在.铝.合.金.表面.制.备.高.致.?高.结.合.强.度.的.氧.化.硅.陶.瓷.涂.层.。探.讨沉.积.工.艺.的.影.响.因.素.，.获.得.最. 佳.沉.积.工.艺参.数.。.研.究.涂.层.成.份.和.结.构.及.力.学.、.电.学.及.摩擦.学.诸.方.面.性.能.以.及.作.为.铝.合.金.基.复.合.涂.层.过渡.层.的.作.用.。.研.究.铝.合.金.基.体.与.沉.积.层.间.结.合强.度.的.产.生.机.理.与.控.制.方.法.。.提.升.铝.基.合.金.在制.造.业.国.防.工.业.等.领.域.的.服.役.性.能.等.级.和.范.围
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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