硼-碳-氮薄膜生长机理及特性研究

采用微波等离子体增强化学气相沉积和等离子体基低能离子注入二种合成工艺制备出硼碳氮系薄膜。利用X射线衍射，透射电镜和扫描电镜，富氏变换红外光谱，俄歇电子能谱和X射线光电子谱，研究了硼碳氮薄膜的生长速率及成分、相结构与制备工艺参数之间的关系，硼碳氮薄膜与硼氮薄膜结构的异同点及其内应力变化规律，硼碳氮薄膜的形成机制。依靠独立可控的低能离子注入剂量速率和工艺温度，等离子体源离子渗氮离子镀、溅射硼和硼碳薄膜，实现了成分、结构可控的硼碳氮薄膜的制备。具有立方和六方晶态结构的化学计量配比成分的BC2N薄膜，国内外尚未见报道。本项目完成了预计研究内容。通过省级技术鉴定一项；在国内外学术刊物共将发表学术论文八篇。