等离子体离子注入材料内表面改性和制膜
基本信息
批准号：50071068
项目类别：面上项目
资助金额：15.00
负责人：杨思泽
学科分类：
依托单位：中国科学院物理研究所
批准年份：2000
结题年份：2003
起止时间：2001-01-01 - 2003-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：李兵,刘赤子,刘斌,程大军,何锐
关键词：
内表面改性薄膜沉积等离子体离子注入
结项摘要
等离子体源离子注入是一种新型的离子注入技术，是目前材料改性技术的热点，广泛用于金属及半导体材料的表面处理。我们将对等离子体源离子注入内表面改性这一难点和热点进行研究，实现圆筒形样品内表面离子注入和薄膜沉积，以达到综合改善内表面的机械性能的目的。这一研究如果成功，将具有重大的工业应用价值。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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