C60半导体薄膜的簇团离子束沉积制备和离子掺杂

基本信息
批准号:69376009
项目类别:面上项目
资助金额:6.50
负责人:范湘军
学科分类:
依托单位:武汉大学
批准年份:1993
结题年份:1996
起止时间:1994-01-01 - 1996-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:郭怀喜,彭友贵,李金钗,刘昌,蒋昌忠,肖年,叶明生,孟宪权
关键词:
簇团离子束沉积C60半导体薄膜离子掺杂
结项摘要

探索了C60的制备和提纯工艺,采用一种高效提纯新方法,得到99.5%以上纯度的C60粉末。研制了一台簇团离子束沉积设备,制备了C60薄膜,用多种分析手段研究了不同成膜条件下制备样品的成分和结构,在多种基片上得到品质良好的C60多晶膜。用多种离子轰击C60膜,揭示了C60分子在低能低剂量离子注入过程中的稳定性。用P(+)离子注入C60膜,原位测量了薄膜电阻随注入剂量以及温度的变化关系,实现了对C60膜的选择性掺杂。将未注入和P(+)注入C60膜分别与Si组成异质结构并封装成二级管,测量Ⅰ-Ⅴ曲线,研究其整流特性和光电响应特性,用能带理论进行了分析和解释。研究表明:C60膜与Si(111)单晶片可构成较为理想的异质结,为C60在半导体器件中的应用提供了实验依据。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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