硅上β-FeSi2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究

基本信息
批准号:69576036
项目类别:面上项目
资助金额:10.00
负责人:林成鲁
学科分类:
依托单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
批准年份:1995
结题年份:1998
起止时间:1996-01-01 - 1998-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王连卫,林贤,陈向东,郑立荣,沈勤我,倪如山
关键词:
外延机制βFeSi2光学性质
结项摘要

β-FeSi2是一种新型半导体材料。本项目在其外延生长、微结构、光学性质等方面取得如下结果:(1)提出反应沉积外延动态模型,独创反应沉积固相外延,改进了共沉积方法,得到具有较高晶体质量的外延薄膜;(2)采用内转换穆斯堡尔谱发现在Si(111)上存在几种等价的外延关系(3)在国际上首次获得其吸收边附近的光调制反射谱,给出它为直接带隙的实验证据并发现杂质带的存在;(4)研究它的红外吸收和晶格振动谱;(5)开展了FeSi2中掺Co、Ni的研究工作并发现它与不同的生长过程有关。该项目研究对进了解β-FeSi2及其相关硅化物的生长机制,高质量β-FeSi2薄膜在硅上的外延,能带结构和光学性质具有重要的理论意义和学术价值。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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