进行了X射线掩模、深度同步辐射光刻和微电铸的基础研究。建立了一套制作LIGA技术掩模的新方法,成功地制作了多 LIGA技术掩模和亚微米光刻掩模。建立了一套制作原胶的工艺,解决了光刻胶开裂,光刻胶和衬底粘结不牢等问题。建立了比较成熟的深度光刻工艺,研制出多种光刻胶图形。建立了一套微电铸体系,探索了微电铸的条件,研制出了几种金属图形,进行了高灵敏度X射线光刻胶的衬研究工作。研制出了α粒子偏码成像波带片、X射线断透射光栅等实用的微光学元件。进行了加速度传感器、气体流量计的初步研究。本项目已在国内外杂志上发表论文七篇;有一篇论文在国际会议上作大会发言,一篇论文作分组报告,五篇论文在国内会议上报告。
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数据更新时间:2023-05-31
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