同步辐射X射线显微成像波带制作关键技术研究

基本信息
批准号:10675113
项目类别:面上项目
资助金额:35.00
负责人:田扬超
学科分类:
依托单位:中国科学技术大学
批准年份:2006
结题年份:2009
起止时间:2007-01-01 - 2009-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:熊瑛,柳龙华,黄新龙,王俊
关键词:
X射线显微成像电子束光刻同步辐射应用X射线光刻波带片
结项摘要

全场X射线显微成像技术具有极高的空间分辨率。这一技术在纳米生物医学、纳米材料研究中具有重要的应用,因此世界上大部分同步辐射装置均建有全场X射线显微成像实验站。而这种X射线显微成像技术的空间分辨率与成像放大波带片的最外环的宽度有关(分辨率约为波带片最外环宽度的1.22倍)。因此,要得到空间分辨率为几十纳米的X射线显微成像,波带片的最外环的宽度也应为几十纳米。同时,由于X射线的穿透能力强,用于X射线显微成像的波带片的图形厚度必须达到几百纳米甚至接近微米,也就是说图形的高宽比很大,因此这一波带片的制作难度非常大。它是阻碍X射线显微成像实现高空间分辨率的关键因素。本项目主要是研究这一波带片制作的关键技术,研制出能够用于X射线显微成像的波带片,以期推动我国的X射线显微成像技术发展。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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