基于高分子基纳米多孔阵列膜的化学修饰、表征与应用

本项目主要研究各种高分子纳米多孔有序阵列膜（嵌段共聚物、导电聚合物等）（Nanopore-array membranes）的制备、表征、化学修饰以及应用。利用旋转涂覆(spin coating)和电沉积（electrodeposition）等方法，将嵌段和导电高分子沉积到金、硅等基底片表面，再通过一系列的加工制作，得到均匀且带一定官能团的孔状纳米阵列膜。通过化学修饰，可对纳米孔进行表面裁剪、改性。运用原子力显微镜（AFM）、扫描电镜（SEM）、荧光显微镜（FM）、反射红外光谱（IR-ERS）和电化学等多种手段对电极进行表征。所制得的带一定官能团的纳米孔状阵列膜可以通过氢键、疏水作用和静电作用等，实现对特定分子的选择性分析，从而在催化、生物传感、分离科学和材料合成等诸多领域得到广泛应用。

纳米多孔阵列膜(Nanopore-array membranes, NAMs)是一类特殊的孔状功能材料，研究表明，NAMs在催化、传感、材料合成等多方面有着诱人的发展前景。本项目利用旋转涂覆(spin coating)、自组装(self-assembly)和电沉积（electrodeposition）等方法，将一些高分子材料和功能材料修饰到金、硅等基底片表面，再通过一系列的加工制作，得到均匀且带一定官能团的孔状纳米阵列膜。运用原子力显微镜（AFM）、扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）和电化学等多种手段对电极进行表征。所制得的NAMs可以通过氢键、疏水作用和静电作用等，实现了在电催化、分子传感、特殊型貌纳米材料等领域的广泛应用。