超精密测量光学器件的变灰度掩模法制作工艺研究

变灰度掩模法是一种新的二元光学器件制作方法，具有成本低、周期短、方法简便等优点。本课题着重研究掩模版灰度等级的精确控制、分辨率的提高及超精密定位、测量、控制集成等问题，并研究用变灰度掩模法制造低成本、高效能超精密测量光学器件的制作工艺。其研究成果将大大提高超精加工的测试水平，对纳米制造技术的推广应用具有重要意义。