光学非球面的磁流体超精密抛光工艺研究
基本信息
批准号：50175062
项目类别：面上项目
资助金额：19.00
负责人：冯之敬
学科分类：
依托单位：清华大学
批准年份：2001
结题年份：2004
起止时间：2002-01-01 - 2004-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：赵广木,张云,吴鸿钟,郭震宇,辛科
关键词：
磁流体抛光光学制造
结项摘要
计算机控制磁流体抛光技术既有很好的工业应用前景，又有很高的学术研究意义。本项目深入研究进行高精度光学零件高效加工的磁流体抛光工艺基础性理论、规律和方法，并研究磁流体抛光专用实验设备。该项目的成功，对促进我国光学制造技术的发展具有里程碑的意义。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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