光学非球面的磁射流抛光技术研究

磁射流抛光技术MJP属确定性光学零件加工范畴，是在小工具CCOS抛光、磁流变抛光和离子束抛光等加工方法发展的基础上提出的。该方法在继承已有确定性加工方法优点的同时，利用磁流体喷射技术，得到完全柔性，具有近似高斯去除函数分布的小抛光模，能够较好解决确定性加工技术发展过程中难以建立理想抛光模的障碍。特别是该方法除普通非球面镜外还可用于大口径和高陡度光学非球面零件加工，极大地拓展了已有确定性光学零件加工的应用范围。课题研究磁射流形成机理，特别是磁流变液射流束在集束磁场作用下的物理特性变化，为射流抛光模的建立提供科学依据。研究具有高斯分布的抛光模形成条件，并在试验基础上，建立去除函数，寻求较为理想的抛光模，以使确定性加工方法获得进一步发展。