稀土元素掺杂的GaN稀磁半导体的第一性原理研究

基本信息
批准号:10947169
项目类别:专项基金项目
资助金额:3.00
负责人:钟国华
学科分类:
依托单位:中国科学院深圳先进技术研究院
批准年份:2009
结题年份:2010
起止时间:2010-01-01 - 2010-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:
关键词:
稀土金属电子结构稀磁半导体第一性原理磁性
结项摘要

在Gd掺杂的GaN稀磁薄膜中,观察到了超大磁矩,这引起了人们对稀土元素掺杂的GaN材料的关注。同时,用第一性原理方法研究f电子材料的电子结构一直是一个挑战。本项目中,在我们对Gd掺杂GaN的研究基础上,进一步采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法(FP-LAPW和VASP-PAW),系统地研究稀土元素La,Ce、Sm、Eu、Tb和Er掺杂的GaN半导体。研究此系列体系的电子结构、磁性和光学性质;观察磁结构的变化,分析超巨大磁矩产生的可能性和机理,并进一步探讨f电子的理论研究方法。从应用角度而言,对稀土元素掺杂的GaN稀磁半导体材料的研究,将为制备光电子和自旋电子器件打下坚实的理论基础。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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