在国际上首次提出高压SOI器件空穴槽复合结构耐.压.层,并提出界面电荷耐压模型,将空ň钟蛴贗层硅.侧,满足电位移全连续性,使I层内电场超过迄今习.用的3倍硅极限电场而达到理论值,突破普通SOI器.件耐压极限。在.I层厚度为3um时耐压.可达2100V.,.未见报道J瞧袼睦硐肽P汀1鞠钅烤哂衅?适性,为与国际水平同步研究,具有重要意义。.......
{{i.achievement_title}}
数据更新时间:2023-05-31
一种基于多层设计空间缩减策略的近似高维优化方法
萃取过程中微观到宏观的多尺度超分子组装 --离子液体的特异性功能
二维FM系统的同时故障检测与控制
扶贫资源输入对贫困地区分配公平的影响
LTNE条件下界面对流传热系数对部分填充多孔介质通道传热特性的影响
超高压SOI器件的界面电荷岛耐压模型与新结构
基于屏障效应的气固复合绝缘系统工频耐压特性及击穿机理研究
基于SOI的横向SJ等效耐压层理论及新结构
新型低k介质埋层SOI功率器件耐压理论与新结构