无掩模SPP波导干涉光刻研究

提出利用全反射激发金属薄膜产生SPP实现近场光增强的多光束耦合波导干涉光刻新方法- - SPP波导干涉光刻术。该技术集中了常规干涉光刻、SPP接触光刻方法的固有优势，克服了普通干涉光刻分辨率难以突破1/4照明波长的局限和一般SPP接触光刻需加工掩模、不能大面积曝光、加工过程中光刻图形的结构无法更改等致命缺点。通过新的波导结构和耦合、调控技术的引入，使SPP干涉光刻不仅曝光速度快、分辨率高，且具有了无掩模、可大曝光面积、能满足不同线条特征尺寸和周期的加工需求等特色。SPP波导干涉光刻新方法不仅可用于常规的微电子、微光学器件加工，还可应用于传统光刻和分子自组装等技术难以适用的一些纳米加工范围；切实满足微纳光、电子学领域纳米结构制作高精度、高效率、低成本加工等诸多特殊要求，特别是可为光子晶体器件提供了一条方便、理想的加工途径，有良好实用前景；对集成光、电子学和表面等离子光学的发展有重要促进意义。