数字光刻新技术研究

数字光刻是用计算机优化产生的一系列"虚拟"的数字图形控制投影曝光设备把图形一幅幅地投影到基片上，理论上它甚至可通过数字分析光学检测系统反馈回基片的光场分布信息，优化调控下一时刻数字图形的结构，以获得最佳的光刻图形质量。它是一种全数字、低图形畸变、高对准精度、高效自动化、无掩模而低成本的光学光刻新技术。该技术的兴起将对未来光刻技术的走向及微电子、微光学、微系统研究的发展产生深刻的影响。本项目拟基于部分相干成像和光化学反应动力学理论，深入研究DLP产生的系列灰度图形在光刻过程中的成像机理，搭建数字光刻实验装置并通过实验研究其光刻工艺条件，分析图形传递过程成像系统、抗蚀剂中的非线性因素及曝光工艺中的各种参量影响，建立可实用的数字光刻理论模型和模拟计算软件。针对数字光刻高数据传输率的要求，在兼顾成像质量的基础上，提出一体化系列数字图形优化设计的新方法。为数字光刻技术的实用化发展提供理论和实验依据。