低气压多频等离子体与材料表面相互作用

针对双频电容耦合、电感/电容耦合以及微波ECR/电容耦合等放电方式，研究低气压等离子体的产生机理及约束方法；分别采用探针、光谱、质谱等实验诊断手段和计算模拟方法研究不同电源的频率及功率的匹配方式对等离子体参数（等离子体密度、电子温度等）及化学活性粒子种类，以及入射到基片表面上离子能量和角度分布的影响，其中重点研究低频电源对等离子体状态参数及鞘层特性的调制行为；建立这种放电等离子体与基片表面相互作用的物理模型，研究频率及功率的匹配效应对刻蚀率、刻蚀剖面及介质薄膜特性的影响，为双频等离子体刻蚀和薄膜制备工艺的参数优化提供必要的科学依据。