二氟化硼分子离子注入抗辐射加固机理的研究
基本信息
批准号：68976036
项目类别：面上项目
资助金额：3.00
负责人：张廷庆
学科分类：
依托单位：西安电子科技大学
批准年份：1989
结题年份：1992
起止时间：1990-01-01 - 1992-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：刘家璐,赵元富,曹阳
关键词：
二氟化硼分子离子注入抗核加固MOS集成电
结项摘要
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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