同步辐射辅助光化学气相沉积技术研究及应用

光化学气相沉积（Photo-assisted CVD）可以大幅度降低薄膜生长的温度，避免其他CVD中的高温生长所产生的界面原子扩散、热应力等问题，并且可以针对反应气体特定能级作选择激发，有利于控制薄膜生长过程，极大地提高薄膜的质量，因此，这一技术正受到越来越多关注。本项目拟利用同步辐射产生的高强度、波长可调谐的真空紫外光作激发光源，开展同步辐射光辅助的CVD(SR-CVD)技术研究；并结合p型掺杂ZnO薄膜等的SR-CVD制备，研究光CVD中气体分解、碎片的形成、在基片上沉积等过程的物理化学问题，探索SR-CVD应用于先进薄膜材料制备和光CVD薄膜生长机理研究的方法，并争取制备出高质量p型掺杂ZnO薄膜。