深亚微米工艺下SOC中射频IP模块实现的基础问题研究

基本信息
批准号:90407006
项目类别:重大研究计划
资助金额:28.50
负责人:池保勇
学科分类:
依托单位:清华大学
批准年份:2004
结题年份:2007
起止时间:2005-01-01 - 2007-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:孙燕玲,徐孝威,朱晓雷,王自强,姚金科,韩舒光,高同强,张希鹏
关键词:
衬底耦合射频电路SOC低压深亚微米
结项摘要

SOC中射频IP模块在深亚微米(特别是线宽小于130nm)工艺下遇到了衬底耦合和低电源电压的挑战。本项目通过对衬底耦合给射频IP模块造成的干扰的物理机理的研究,从改进电路结构方面入手探讨减小SOC中数字电路的开关噪声和大功率模块(如功率放大器、振荡器等)对射频IP模块干扰的原理和方法,研究强抗干扰射频电路结构;通过对晶体管耐压能力物理机理和射频功率放大器设计理论的研究,探讨低压下提高射频功率放大器的输出功率和效率的原理,研究低压大输出功率高效率射频功率放大器的集成CMOS实现问题;通过对晶体管噪声机理和低压电路结构的研究,探讨低压低噪声低功耗强抗干扰射频电路设计方法;研制出采用深亚微米工艺实现的、能与SOC中其它IP模块集成并具有良好性能的射频IP模块。该项成果解决深亚微米工艺下SOC中射频IP模块实现的基础问题,可以为实现深亚微米工艺下的单芯片无线收发机和SOC集成打下良好基础。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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