磁性多层膜反常霍尔效应的研究

基本信息
批准号:10874216
项目类别:面上项目
资助金额:40.00
负责人:蔡建旺
学科分类:
依托单位:中国科学院物理研究所
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:刘奕帆,吕伟明,吕琴丽,汪金芝,刘涛
关键词:
反常霍尔效应磁性多层膜界面散射
结项摘要

磁性多层膜的反常霍尔效应表现出完全不同于均匀体材料的新特点,表面和界面效应主宰其霍尔电阻,具有重要的应用前景,但目前实验和理论都还非常粗糙,缺乏对界面散射的细致考查。本项目拟围绕CoFe/(Cu、Ru、Pt、Au)等磁性多层膜反常霍尔效应的界面散射贡献及其增强来展开。通过系统改变多层膜磁性层和非磁性层的厚度,将界面散射(包括磁结构相关的散射)所产生的反常霍尔系数和电阻率从各自总量中分离出来,比较不同界面粗糙度、不同磁耦合状态、不同自旋-轨道耦合系数、不同自旋翻转长度(或自旋扩散长度)分别对层内和界面的斜交散射与侧跃散射的不同影响,阐明多层膜反常霍尔效应的主导机制,并综合考虑影响多层膜反常霍尔效应的各因素,通过复合多层结构将反常霍尔灵敏度提升到一个新的高度。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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