纳米岛光刻技术和它在同步辐射纳米光刻中的应用

该研究项目将建立起一种新的纳米结构制造方法- - 纳米岛光刻技术。利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构，然后利用剥离、刻蚀、同步辐射光刻等技术，将该岛结构转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等结构。该技术的特点是能够制造出具有各种密度的纳米结构（最高覆盖率可达50%以上），同时该方法与电子束等微加工方法相比，具有明显的成本和工艺优势，表现为低的工艺成本和容易完成的工艺性能，是纳米岛结构一种非常有效的专业制造方法。该项目的完成，将建立起纳米岛光刻技术研究的基础平台,为国内的纳米研究服务。纳米结构的一些独特的性能已引起许多研究人员的高度重视，从而得到了迅速的发展，而纳米岛结构作为一种独特的纳米结构，已经在微光学、电化学、生物技术等方面得到了重视，正在进行研究和开发，并已取得了重要的研究成果。纳米岛光刻技术以其低廉的开发成本，优越的工艺性能，高密度的纳米结构，在纳米技术的研究和应用方面将发挥重要作用。