直接激光干涉纳米光刻技术研究

本项目主要目标是研究与开发一种新型无掩模直接激光干涉纳米光刻技术。该技术利用二光束或多光束激光干涉产生的图案(干涉线或点阵列的能量分布)直接加工或修改材料表面，形成与图案相对应的纳米结构。项目的研究内容和拟解决的关键问题包括任意组合条件下的多光束干涉图案的形成、干涉图案的均匀性、干涉图案的定位和可重复定量纳米光刻。通过借鉴国内与欧盟项目中发现但尚未解决的问题，结合国内在激光干涉光刻方面的技术储备(亚微米级)，利用欧盟的高分辨率技术(特征尺寸30-40nm)并克服现有的不足,实现其大面积、低成本与高效制造纳米结构表面的潜力(特征尺寸约22nm)，使其符合新一代光刻标准要求。直接激光干涉纳米光刻技术具有广泛的应用前景，如纳米光栅、防伪标识、宽带光学减反膜、自清洁表面、纳米滤波器及利用激光干涉控制的纳米材料制造等。项目目标的成功实现将有助于我国社会经济的发展，并确保中国在该领域的国际领先地位。