研究一种基于电流变效应(Winslow-effect)的电流体辅助抛光方法,融合确定性微量去除概念与面形误差迭代修正方法,以电介质分子极化模型为机理研究基础,以小口径至微小口径光学曲面元件为抛光对象,加工材料扩展到玻璃、金属、晶体及陶瓷等,将柔性去除(flexible-removal)理念应用于开发实用型复合姿态控制电流体抛光装置。藉由有限元分析和分子动力学仿真方法对抛光区域的微观材料去除机理进行
{{i.achievement_title}}
数据更新时间:2023-05-31
基于腔内级联变频的0.63μm波段多波长激光器
非牛顿流体剪切稀化特性的分子动力学模拟
LTNE条件下界面对流传热系数对部分填充多孔介质通道传热特性的影响
制冷与空调用纳米流体研究进展
无机粒子填充硅橡胶基介电弹性体的研究进展
光学非球面的磁流体超精密抛光工艺研究
碳化硅零件氧化辅助抛光加工机理与关键工艺研究
面向复杂型面光学器件的超声空化辅助多喷嘴射流抛光工艺机理研究
强光光学元件零缺陷加工理论及关键工艺研究