基于STM光刻技术的硬质涂层纳米压印模板的加工研究

纳米压印技术作为一种新兴的IC加工技术，具有工艺简单，价格低廉，重复性好等优点。随着该技术进一步发展，对纳米压印模板的线宽和使用寿命提出了更高的要求。本研究采用STM纳米光刻技术及后续的刻蚀、剥离等工艺加工硬质涂层纳米压印模板。主要工作包括：积累STM纳米光刻相关参数如探针材料、压头尖端形状、电压、电流等对特定胶层光刻结果影响的实验曲线；研究如何把胶层纳米图案通过合适的微细加工技术变成硬质涂层上的纳米结构；确定适合纳米模板加工的硬质涂层的制备工艺过程、力学性能等参数。通过这些工作实现线宽更小、硬度更高、耐磨性能更好的硬质涂层压印模板。这些研究将推动纳米压印技术进一步发展，为纳米压印技术走向实用打下基础。