脉冲激光淀积法制备KTP晶体薄膜及其结构、性能研究

基本信息
批准号:19574003
项目类别:面上项目
资助金额:8.00
负责人:王忠烈
学科分类:
依托单位:北京大学
批准年份:1995
结题年份:1998
起止时间:1996-01-01 - 1998-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:范守善,李美亚,赵清水,李群庆,龚新军
关键词:
光波导效应脉冲激光淀积KTP晶体
结项摘要

利用脉冲激光法制备了几种典型的氧化物功能薄膜。首次在MgO衬底上处延生长了钾钠铌酸锶钡铁电薄膜;在LaAlO3衬底上实现了该膜的异质结取向生长,并首次观测到了其典型的电滞回线和铁电参数,表明这一薄膜具有用作薄膜光波导和铁电存储器的潜力。系统地研究了性能优良的La0.5Sr0.5CoO3导电薄膜在多种衬底和沉积温度条件下的外延生长和电输运特性,获得了衬底及沉积温度等对这一薄膜性能的影响及机理的深入认识。在Si(100)基片上制备了(100)取向的CeO2薄膜,首次发现了CeO2的取向对氧压的独特依赖关系,提出了新的界面生长模型。在LaAlO3衬底上处延生长了几种稀土掺杂锰氧化物薄膜。观测到了低磁场下显著的铁磁转变及巨磁电阻效应。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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