相移滤波用于超微细图形成像光刻原理研究

基本信息
批准号:69876041
项目类别:面上项目
资助金额:17.00
负责人:陈旭南
学科分类:
依托单位:中国科学院光电技术研究所
批准年份:1998
结题年份:2001
起止时间:1999-01-01 - 2001-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:姚汉民,李展,罗先刚,余国彬,姜念云
关键词:
相移滤波超微细光刻分辨力
结项摘要

新型高分辨力、大焦深、低邻近效应相移滤波的基本理论研究;结合离轴照明研究影响成像质量的波前工程新理论;相移滤波器的设计与激光直写制作研究;研究相移滤波器制作误差对分辨力的影响。本项研究的实施将为我国千兆位集成电路、微机械和微光学的发展及超微细图形光刻领域的研究打下理论和实践基础,具有重要的科学意义和广泛的应用价值。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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