全息离子束刻蚀同步辐射光栅微结构精密控制技术

基本信息
批准号:10875128
项目类别:面上项目
资助金额:41.00
负责人:徐向东
学科分类:
依托单位:中国科学技术大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:邱克强,周小为,刘正坤,李小军
关键词:
同步辐射衍射光栅全息光刻离子束刻蚀
结项摘要

同步辐射光栅是指用于真空紫外及软X射线波段的同步辐射光束线中的一类衍射光栅,是光栅单色仪的核心元件之一。目前北京和合肥国家同步辐射实验室所用的同步辐射光栅主要依赖进口。同步辐射光栅的使用寿命有限,进口的同步辐射光栅价格十分昂贵,供货周期长。开展全息离子束刻蚀同步辐射光栅制作的关键技术研究非常必要,它将为制作实用水平的同步辐射光栅提供技术储备,对大科学工程实际应用具有重要意义。.全息-离子束刻蚀是同步辐射光栅制作的主导制作方法。高衍射效率是同步辐射光栅的重要指标之一,而衍射效率是与光栅槽形微结构有关。着重研究全息和离子束刻蚀过程中光栅微结构的演变,建立模型,以期达到光栅微结构的精密控制。通过大量的实验和理论分析,确定长条形光栅基底光刻胶涂布均匀性、离子束刻蚀速率波动和离子束刻蚀再沉积的主要影响因素。掌握完整的工艺技术,解决光栅研制过程中出现的技术问题。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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