含氟SiO2薄层的研究
基本信息
批准号：68776044
项目类别：面上项目
资助金额：4.00
负责人：徐元森
学科分类：
依托单位：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
批准年份：1987
结题年份：1989
起止时间：1988-01-01 - 1989-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：
关键词：
***
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项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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