研究控制ECR(电子回旋共振)等离子体中的电子与离子照射能,在25nm-100nm直径Al2O3纳洞内填充金属Co磁性材料基体上,沉积厚度小于10nm的纳米碳膜的摩擦退磁行为。利用HRTEM(0.18nm分辨率下的透射电镜)研究ECR纳米碳膜的纳米结构及与Al2O3-Co纳洞充磁记录体表面的键合状态(界面强度的本质特征);利用SPM(扫描探针显微境)研究电子与离子照射能在控制碳膜在Al2O3表面和Co表面生成的纳峰特征与摩擦学性能的关系(指表面吸附);搭建硬盘微摩擦退磁在线检测系统,并研究不同载荷、不同滑动速度下触头与盘面的摩擦磨损接触部的退磁状态。建立纳洞充磁记录系统中ECR碳防护膜的纳米结构与纳峰所控制的摩擦学性能的设计理论及制备技术。研制纳洞充磁记录系统的微摩擦接触与磁头/磁盘扫描相结合的摩擦退磁在线检测系统。为1Tb/in2超高密度新型磁头/磁盘记录系统的开发奠定摩擦学研究基础。
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数据更新时间:2023-05-31
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