一种等离子体基离子注入/沉积新方法的基本理论和技术研究

提出了一种新型的等离子体基离子注入/沉积表面改性新方法- - 电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积，前期的研究证明了该方法的可行性，虽然该方法是完全具有自主知识产权的新型离子注入技术，并且目前已经申请了两项国内专利和一项美国专利,但仍然需要对其基本理论进行更深入的研究。研究包括从理论上建立该新型注入/沉积方法的等离子体增强机理以及离子的分布规律模型，深入研究电子聚焦电场增强等离子体辉光增强机理和微观机制。深入研究这种方法的等离子体密度分布模型，建立电子聚焦电场增强等离子体离子注入－沉积方法中的离子分布规律等，研究其等离子体注入鞘层扩展规律。研究对进一步推进离子注入在材料表面改性领域中的应用理论和技术具有重要意义。