SOI衬底上SiGe(SiGe-on-insulator,SGOI)异质结作为可以获得应变硅的衬底材料是当前半导体材料科学领域关注的研究方向之一,对SGOI异质结应变弛豫机制的探索将为SGOI的制造工艺提供重要的科学依据。本项目拟研究在加热条件下体Si和SOI衬底上SiGe层的应变弛豫机制、SOI衬底对SiGe层应变弛豫的影响、SiGe层应变弛豫与SOI顶层Si应变产生的关系、SOI顶层Si应变产
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数据更新时间:2023-05-31
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