晶格失配异质外延层中应变弛豫机理的研究

基本信息
批准号:69576028
项目类别:面上项目
资助金额:7.00
负责人:范缇文
学科分类:
依托单位:中国科学院半导体研究所
批准年份:1995
结题年份:1997
起止时间:1996-01-01 - 1997-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:吴巨,张金福,邹吕凡,周帆,殷士端,王春燕
关键词:
应变弛豫透射电镜缺陷工程
结项摘要

以透射电镜为主要手段,研究了各种异质外延材料系中应变弛豫及有序化现象,结果如下:(一)在大失配应变异质外延材料中同时存在两个应变弛豫机制。靠近界面处的应变主要以形成失配位错的方式弛豫,而靠近表面处,主要以形成表面起伏,从而降低系统能量。(二)在三元合金外延材料系中,如:InGaP·InGaAs等外延材料中存在一些特殊的结构现象。(1)界面失配位错的晶向偏离<110>方向一个夹角。角度的大小与三元合金的成份有关。(2)外延层中的穿透位错的受力状态及其行为受合金化的影响很大。(三)在InGaP·InGaAs等外延材料中的有序化现象及其结构细节与生长条件有密切关系,并对其光电性质产生明显影响。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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